Al₂O₃薄膜制备工艺对高温阻挡性能的影响

摘要

随着探测技术的飞速发展,武器装备对于具有低红外辐射特性材料需求越来越高,尤其是高温部件的红外辐射信号抑制材料。Pt金属薄膜具有超低的红外发射率,但由于金属薄膜在高温下存在与基体元素的扩散,从而造成红外发射率大幅上升,因此需要制备具有高温稳定性的阻挡层。采用磁控溅射和电子束气相沉积工艺制备Al₂O₃薄膜阻挡层,通过SEM、XRD研究不同工艺制备的Al₂O₃薄膜微观形貌、相组成,并研究不同工艺制备的Al₂O₃薄膜上磁控溅射镀Pt后红外发射率的变化规律。结果表明:采用电子束气相沉积工艺制备的Al₂O₃薄膜,具有稳定的晶体结构。表面镀覆Pt金属薄膜后,薄膜初始红外发射率为0.16,经过900℃、20 h高温后,红外发射率为0.172,具有良好的耐高温性能,有望应用于高温低红外发射率薄膜的阻挡层。

关键词

Al＿2O＿3薄膜 / 电子束气相沉积 / 磁控溅射 / 红外发射率 / 阻挡层