通过孟德尔随机化评估晒黑反应对特应性皮炎的影响

摘要

目的 了解日晒暴露后皮肤晒黑反应(ease of skin tanning, EST)与特应性皮炎(atopic dermatitis, AD)之间的因果关系。方法 将来自全基因组关联研究(GWAS)的与皮肤晒黑反应强相关的遗传位点(SNPs)作为工具变量(IVs),与来自不同的GWAS研究的AD的遗传数据进行Two Sample MR分析。主要采用随机效应逆方差加权(IVW)方法进行分析，并以MR-Egger回归方法作为补充，结果通过OR值来呈现。结果 共获得了124个与皮肤晒黑反应密切相关的SNPs作为工具变量，IVW结果[OR=0.888, 95%CI:0.82～0.97;P=0.005]及MR-Egger结果[OR=0.886, 95%CI:0.80～0.98,P=0.019]均表明，基因预测发现皮肤容易晒黑是AD发病的保护性因素。结论 日晒后皮肤晒黑反应与AD的发生存在因果关联，是AD的保护性因素，但是否通过黑色素来影响AD的发病，还需要进一步的观察性研究和临床试验来证实。

关键词

特应性皮炎 / 皮肤晒黑反应 / 黑色素沉着 / 孟德尔随机化 / 因果推断