基于阿伏苯宗-阿魏酸的光释放与抗氧化性能

张天龙, 陈光

高等学校化学学报 ›› 2024, Vol. 45 ›› Issue (05) : 54 -62.

PDF (9805KB)
高等学校化学学报 ›› 2024, Vol. 45 ›› Issue (05) : 54 -62.

基于阿伏苯宗-阿魏酸的光释放与抗氧化性能

作者信息 +

Author information +
文章历史 +
PDF (10039K)

摘要

阿魏酸是一种有效的抗氧化剂,因具有抵抗氧化应激和延缓皮肤衰老性能而被广泛应用于化妆品中.然而,光敏性对其应用提出了挑战.为了克服这一限制,本文开发了一种由阿伏苯宗(AB)和阿魏酸(FA)组成的二元分子.该设计基于阿伏苯宗结构中存在可以光去除的苯甲酰甲基,以保护阿魏酸免受光损伤并保持其抗氧化活性.研究结果表明, FA得以成功释放, AB对FA具有有效的光保护作用.体外实验结果表明, AB-FA分子及其光解产物具有显著的清除自由基活性;而细胞实验结果则证实其较低的细胞毒性和优异的清除活性氧自由基(ROS)能力.

关键词

阿伏苯宗 / 光保护 / 清除自由基活性

Key words

引用本文

引用格式 ▾
张天龙, 陈光 基于阿伏苯宗-阿魏酸的光释放与抗氧化性能[J]. 高等学校化学学报, 2024, 45(05): 54-62 DOI:

登录浏览全文

4963

注册一个新账户 忘记密码

参考文献

AI Summary AI Mindmap
PDF (9805KB)

17

访问

0

被引

详细

导航
相关文章

AI思维导图

/