湿法刻蚀Ag纳米线阵列制备SiO₂固态纳米孔薄膜

摘要

相比传统生物纳米孔薄膜,固态纳米孔薄膜在化学、机械及热稳定性方面表现更优,因此在生物探测和生命健康等领域具有广泛应用前景.本文通过多靶磁控共溅射系统制备银（Ag）纳米线阵列-二氧化硅（SiO₂）复合超材料薄膜,并采用化学湿法刻蚀技术,利用过氧化氢（H₂O₂）刻蚀液选择性溶解Ag纳米线阵列,成功制备了平均直径约为5 nm的SiO₂固态纳米孔阵列薄膜.通过X射线衍射、电感耦合等离子体发射光谱和椭圆偏振光谱等分析手段,证实了Ag纳米线在H₂O₂溶液中完全溶解,并阐明了Ag纳米线与H₂O₂的化学反应机理.此外,利用扫描电子显微镜和小角X射线散射仪对SiO₂固态纳米孔阵列的形貌及微结构尺寸进行了表征.本研究成功制备了直径小于10 nm的SiO₂固态纳米孔阵列结构,为高效制备SiO₂固态纳米孔阵列提供了新的思路.

关键词

固态纳米孔 / 化学湿法刻蚀 / 银纳米线阵列 / 溶解 / 磁控溅射