钯/多孔钽/钽复合膜的制备及表征

李广忠, 王昊, 李亚宁, 黄愿平

doi:10.19591/j.cnki.cn11-1974/tf.2023030002

粉末冶金技术 ›› 2024, Vol. 42 ›› Issue (6) : 632 -637. DOI: 10.19591/j.cnki.cn11-1974/tf.2023030002

钯/多孔钽/钽复合膜的制备及表征

李广忠, 王昊, 李亚宁, 黄愿平

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摘要

通过喷涂-烧结工艺在钽箔表面获得了一层多孔钽膜，以多孔钽/钽为基体，采用化学镀钯工艺获得了钯/多孔钽/钽复合膜，研究了烧结温度对多孔钽膜形貌的影响，并分析了钯膜的生长行为。结果表明，烧结温度对多孔钽膜的结构具有显著影响，1700℃烧结2 h可获得烧结颈发育良好的多孔钽膜。化学镀时间对多孔钽膜表面的钯膜具有显著的影响，且由于多孔钽膜表面结构复杂，不易在多孔钽表面获得均匀、致密的钯膜。