TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用

陈东; 刘诗斌; 梁晋涛

doi:10.16088/j.issn.1001-6600.2014.02.038

广西师范大学学报（自然科学版） ›› 2014, Vol. 32 ›› Issue (02) : 55 -59. DOI: 10.16088/j.issn.1001-6600.2014.02.038

TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用

陈东, 刘诗斌, 梁晋涛

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摘要

四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂。在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度。本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响。研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度。