电镀园区废水磁混凝沉淀深度处理中试研究

电镀与涂饰 ›› 2024, Vol. 43 ›› Issue (12) : 154 -160.

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电镀与涂饰 ›› 2024, Vol. 43 ›› Issue (12) : 154 -160. DOI: 10.19289/j.1004-227x.2024.12.020

电镀园区废水磁混凝沉淀深度处理中试研究

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摘要

[目的]广东某电镀园区污水处理厂的实际处理水量不断增加,出水排放要求也提高,但该污水厂地处园区核心地段,无新增建设用地,亟需原位优化提标扩容改造。[方法]针对该厂二级沉淀池存在表面负荷低、占地面积大、出水水质不稳定等问题,提出磁混凝沉淀深度处理工艺,并通过现场中试,研究了该工艺对实际电镀废水的处理效果。[结果]磁混凝沉淀处理电镀废水的较优工艺条件为:磁粉投加量4.0 g/L,PAC质量分数0.4‰,PAM质量浓度2 mg/L,处理水量25m3/h[即表面负荷17.5m3/(m2·h)]。在该条件下处理后出水的SS(固体悬浮物)和CODCr(化学需氧量)均能稳定达标。该中试系统的磁粉、药剂和电耗成本分别为0.03、0.36和0.31元/t,综合运行成本为0.7元/t。[结论]采用磁混凝沉淀工艺深度处理电镀园区废水可行,具有表面负荷高、出水水质稳定、运行成本低的优点。

关键词

电镀废水 / 深度处理 / 磁混凝沉淀 / 中试

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电镀园区废水磁混凝沉淀深度处理中试研究[J]. 电镀与涂饰, 2024, 43(12): 154-160 DOI:10.19289/j.1004-227x.2024.12.020

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