脉冲电沉积法制备WNiCoCuMo高熵合金薄膜及其耐腐蚀性能

doi:10.19289/j.1004-227x.2025.02.008

电镀与涂饰 ›› 2025, Vol. 44 ›› Issue (02) : 49 -57. DOI: 10.19289/j.1004-227x.2025.02.008

李亮星, 王劲松, 吴家航, 程一, 薛丽蓉, 黄茜琳

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摘要

[目的]高熵合金材料具有优异的力学性能和物理化学性能，近年来备受关注。[方法]采用脉冲电沉积技术在钛基体上制备WNiCoCuMo高熵合金薄膜。研究了温度、脉冲频率、占空比及峰值电流密度对合金薄膜形貌和元素组成的影响。通过电化学阻抗谱和塔菲尔曲线测试对比了不同峰值电流密度下所得高熵合金薄膜的耐腐蚀性能。[结果]电沉积WNiCoCuMo高熵合金薄膜的较优工艺条件为：温度30℃，峰值电流密度40 mA/cm²，脉冲频率2 000 Hz，占空比0.7。在该条件下所得WNiCoCuMo高熵合金薄膜为微晶结构，呈“菜花状”形貌，元素成分均匀，耐腐蚀性能较优。[结论]采用脉冲电沉积法可获得耐腐蚀性能良好的WNiCoCuMo高熵合金薄膜。