SiCp/Al等离子体电解氧化工艺的正交优化与膜层性能分析

王承志, 周海安, 和利伟, 郑泽旭, 高弘霖, 孟建兵

电镀与涂饰 ›› 2025, Vol. 44 ›› Issue (12) : 102 -110.

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电镀与涂饰 ›› 2025, Vol. 44 ›› Issue (12) : 102 -110. DOI: 10.19289/j.1004-227x.2025.12.014

SiCp/Al等离子体电解氧化工艺的正交优化与膜层性能分析

    王承志, 周海安, 和利伟, 郑泽旭, 高弘霖, 孟建兵
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摘要

[目的]为了提高铝碳化硅复合材料(Si Cp/Al)的耐蚀性,对其表面进行等离子体电解氧化(PEO)。[方法]在以NaAlO2、Na OH和NaH2PO4为主要成分的电解液中对SiCp/Al复合材料表面进行等离子体电解氧化。以正向电压、占空比、脉冲频率和氧化时间为考察因素,以膜层厚度、孔隙率和平均孔隙面积为评价指标进行正交试验,采用层次分析(AHP)及基于指标间相关性的权重确定方法(CRITIC)的混合加权法和极差分析,得到最佳电参数。通过场发射扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、电化学工作站等表征手段对优化后的PEO复合膜层进行分析。[结果]PEO复合膜层表面相对平整,但存在一些细小的孔洞,膜层主要由Al2O3、Si C、Si O2及一定数量的α-Al2O3、γ-Al2O3等物相组成。与基体相比,PEO膜层的腐蚀电位正移了229 m V,腐蚀电流密度下降了1个数量级,耐腐蚀性能得到明显改善。[结论]本研究可以为Si Cp/Al的表面腐蚀防护提供一定的试验依据和基础指导。

关键词

铝碳化硅复合材料 / 等离子体电解氧化 / 正交试验 / 混合加权法

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SiCp/Al等离子体电解氧化工艺的正交优化与膜层性能分析[J]. 电镀与涂饰, 2025, 44(12): 102-110 DOI:10.19289/j.1004-227x.2025.12.014

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