紫铜等离子电解抛光工艺研究

摘要

[目的]对紫铜进行等离子电解抛光处理，以解决传统抛光工艺存在的效率低、环境污染等问题，实现高效、绿色的表面精加工。[方法]通过正交试验研究加工电压、抛光时间、电解液温度及试样下潜深度对紫铜抛光后表面粗糙度的影响，对比了抛光前后紫铜的外观、表面形貌、显微硬度和耐蚀性。[结果]紫铜等离子电解抛光的较优工艺参数为：电压260 V，电解液温度60℃，抛光时间11 min，下潜深度8 cm。在该条件下抛光后，紫铜的表面光洁度与均匀性明显改善，显微硬度略降，表面粗糙度Ra可由0.834μm降至0.052μm，疏水性增强，耐蚀性显著提升。[结论]等离子电解质抛光可高效、环保地实现紫铜表面精整，在航空航天、集成电路等领域具有广阔的应用前景。

关键词

紫铜 / 等离子电解抛光 / 表面粗糙度 / 耐腐蚀 / 正交试验