脉冲参数对电镀金层微观结构与耐腐蚀性能的影响

摘要

[目的]针对航天接插件薄金层对高耐蚀性与高可靠性的需求，研究脉冲电沉积参数对氰化物镀金层微观结构与耐腐蚀性能的影响，为脉冲镀金工艺的工程化应用提供参数依据。[方法]以镀镍黄铜片为基底，采用市售氰化亚金钾镀液进行脉冲电沉积。借助X射线荧光测厚仪、扫描电镜（SEM）和极化曲线测试对镀层进行表征与耐蚀性检测。在控制金层厚度为0.3～0.6μm的条件下，通过单因素实验分别考察了脉冲频率、占空比、正向电流密度和反向电流密度对镀层表面形貌及耐蚀性的影响。[结果]当脉冲频率为800 Hz、占空比为22%、正向电流密度为0.11 A/dm²、反向电流密度为0.004 A/dm²时，所得Au镀层晶粒细小、表面致密平整，经96 h中性盐雾试验后表面无锈蚀。[结论]合理调控脉冲电沉积参数可显著优化电镀金层的微观组织与耐蚀性，本研究可为航天接插件高可靠性薄金层的制备提供参考方案。

关键词

脉冲电沉积 / 氰化物镀金 / 耐蚀性 / 组织结构