硅烷化处理对镁合金表面微弧氧化涂层降解性能的影响

摘要

采用电沉积、真空浸渍和常规浸渍3种工艺对Mg-0.45Zn-0.45Ca合金上的微弧氧化涂层进行硅烷偶联剂(KH550)硅烷化处理.通过扫描电镜、维氏硬度计和电化学测试等，研究了硅烷化处理工艺对医用镁合金表面微弧氧化涂层的缺陷封闭效果和在模拟体液（SBF）中长期降解性能的影响.结果表明，3种工艺均可在微弧氧化涂层表面获得硅烷薄膜.其中，利用电沉积可制备出厚度为1.5～7μm的硅烷膜层，对微弧氧化涂层有很好的封闭效果，且可有效提高涂层的硬度和附着力.此外，电沉积工艺处理的涂层在模拟体液中浸泡3个月后仍可有效保护镁合金基体，满足可降解生物医用镁合金的需求.因此，利用微弧氧化和KH550硅烷电沉积处理的Mg-0.45Zn-0.45Ca合金具有成为可降解镁合金植入物的潜力.

关键词

镁合金 / 涂层 / 硅烷 / 电沉积 / 长期降解性能