基于磁控溅射的红外光窗金属化膜层制备与性能研究

肖佳楠; 尹士平; 彭乔; 顾迎春

doi:10.16009/j.issn.1009-5624.2026.02.010

信息记录材料 ›› 2026, Vol. 27 ›› Issue (2) : 33 -35. DOI: 10.16009/j.issn.1009-5624.2026.02.010

基于磁控溅射的红外光窗金属化膜层制备与性能研究

肖佳楠, 尹士平, 彭乔, 顾迎春

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摘要

为提升红外探测器封装光窗的电导性能与界面结构稳定性，本研究采用磁控溅射工艺构建铬(Cr)/镍(Ni)/金(Au)三层金属化膜层，并以锗(Ge)、硫化锌(ZnS)等典型红外窗口材料为基底，系统开展膜厚调控、电性能测试与界面结构评估。结果表明，在优化溅射功率条件下，Cr/Ni/Au结构可形成连续致密的三层体系，其中Ni层作为缓冲结构可有效协调热膨胀失配，提升膜层整体附着性能。四探针测试结果显示，当膜厚达500 nm时，三层结构方阻稳定低于4Ω，优于传统双层组合。断面电镜分析与热冲击模拟结果证实，该结构具备良好的晶格过渡性与抗界面失效能力。本研究建立的膜厚-电阻-界面状态关联模型为红外光窗封装用金属膜的结构设计与工艺控制提供了理论支撑与实证依据。