一种基于MEEF与NILS的光学邻近校正参数优化策略

程鸽

doi:10.16009/j.issn.1009-5624.2026.12.060

信息记录材料 ›› 2026, Vol. 27 ›› Issue (12) : 184 -186. DOI: 10.16009/j.issn.1009-5624.2026.12.060

一种基于MEEF与NILS的光学邻近校正参数优化策略

程鸽

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摘要

光学邻近校正(OPC)是亚波长光刻中的关键技术。传统OPC多基于边缘放置误差，未充分考虑掩膜误差增强因子(MEEF)与归一化图像对数斜率(NILS)对工艺窗口稳定性的影响。基于此，本文提出一种基于MEEF与NILS驱动的OPC参数优化方法，仅利用空间光强图像仿真，直接优化MEEF(降低)与NILS(提高),以提升成像稳定性和工艺鲁棒性。实验结果表明：相较于基线OPC方案，优化后关键图形MEEF平均降低约25%,NILS平均提高约15%,并在不同照明条件下表现出良好的鲁棒性。该方法构建了纯光学模型下的快速OPC参数预优化框架，并为后续基于机器学习的MEEF/NILS预测提供思路。