双层热敏版显影性能的优化及网点侧侵蚀的抑制研究

芦鼎; 张林; 吴东璟

doi:10.16009/j.issn.1009-5624.2026.13.004

信息记录材料 ›› 2026, Vol. 27 ›› Issue (13) : 14 -17+20. DOI: 10.16009/j.issn.1009-5624.2026.13.004

双层热敏版显影性能的优化及网点侧侵蚀的抑制研究

芦鼎, 张林, 吴东璟

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摘要

针对双层热敏计算机直接制版(CTP)显影过程中曝光区清除率与小网点边缘稳定性难以同时优化的痛点，本文聚焦双层热敏CTP版材下层成膜树脂的显影性能，以双层结构下层成膜树脂为研究对象，在保持化学结构体系不变的条件下，通过调控分子量分布，系统探究低分子量组分对成膜树脂碱性显影溶解速度及图文边界侧侵蚀行为的影响。采用凝胶渗透色谱(GPC)表征分子量分布，以5 kDa、10 kDa以下组分质量分数量化低分子量分布特征。结合25℃点滴溶解测试与20～30 s梯度显影实验，综合评价树脂显影窗口性能。实验结果表明：适度调控低分子量分布，可有效提高曝光区清除效率，同时保障小网点边缘稳定；低分子量组分占比过高，易加剧图文侧身侵蚀、破坏小网点完整性；而低分子量组分占比过低，则易引发显影残留、版面脏点等问题。本文提出以小网点为敏感约束的分布控制思路，为下层树脂设计和产品稳健性提供了理论参考与技术支撑。