底涂涂布工艺参数对PP基SiOx高阻隔膜性能稳定性的影响

甘绍艳; 聂冰; 刘艺凡; 王斌; 高顺; 汪君斌; 李明; 曹安迪

doi:10.16009/j.issn.1009-5624.2026.17.001

信息记录材料 ›› 2026, Vol. 27 ›› Issue (17) : 1 -6. DOI: 10.16009/j.issn.1009-5624.2026.17.001

底涂涂布工艺参数对PP基SiOx高阻隔膜性能稳定性的影响

甘绍艳, 聂冰, 刘艺凡, 王斌, 高顺, 汪君斌, 李明, 曹安迪

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摘要

为提高聚丙烯（PP）基氧化硅（SiOx）高阻隔膜的性能稳定性，本文以底涂涂布工艺为研究对象，考察了收卷张力、烘箱温度和冷辊温度对底涂层表面形貌、镀膜半成品阻隔性能以及复合蒸煮后性能的影响。采用扫描电子显微镜（SEM）观察底涂层表面形貌，测试SiOx镀膜半成品的水蒸气透过率（WVTR）和氧气透过率（OTR）;同时，将经顶涂后的高阻隔膜与PP基材、蒸煮级流延聚丙烯薄膜（RCPP）复合，测试复合样品蒸煮前后的WVTR、OTR及剥离强度。结果表明：随着底涂涂布工艺参数的优化，底涂层表面由相对粗糙逐步趋于平整，颗粒感明显减弱，后续SiOx镀膜适应性得到改善。与对照样相比，优化后样品镀膜半成品WVTR由2.54 g/（m²·24 h）降低至0.79 g/（m²·24 h）,OTR由5.59 mL/（m²·24 h）降低至2.80 mL/（m²·24 h）。经顶涂后高阻隔膜与PP基材及RCPP复合并蒸煮后，优化样品的WVTR和OTR分别为1.27 g/（m²·24 h）和1.05 mL/（m²·24 h）,两个剥离位置的剥离强度仍保持在较高水平。研究表明：合理调控底涂涂布工艺参数有助于改善底涂层成膜质量，提高PP基SiOx高阻隔膜的镀膜适应性及复合蒸煮后的性能稳定性。