基于ZIF-67原位合成的织物制备及光热抗菌研究

王乾; 管思雅; 江南

doi:10.19843/j.cnki.CN42-1779/TQ.202303022

武汉工程大学学报 ›› 2025, Vol. 47 ›› Issue (6) : 614 -620. DOI: 10.19843/j.cnki.CN42-1779/TQ.202303022

基于ZIF-67原位合成的织物制备及光热抗菌研究

王乾, 管思雅, 江南

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摘要

为有效杀灭纺织物表面的耐药菌，在普通涤纶、棉布表面原位合成ZIF-67纳米颗粒，以制备出改性涤纶(ZIF-67@Dacron)、改性棉布(ZIF-67@Cotton)。通过X射线衍射、傅里叶变换红外光谱、场发射扫描电子显微镜对所得改性织物进行表征，并测试了其光热性能及抗菌能力。结果表明：ZIF-67纳米颗粒成功生长到涤纶、棉布表面。使用近红外光照射30 s,ZIF-67@Dacron、ZIF-67@Cotton表面温度分别可升至95、120℃，且这一光热特性在5次升-降温循环中保持稳定。这两类改性织物优异、稳定的光热性，使其能在3 min近红外光照射时有效杀灭表面99.9%以上的耐药型革兰氏阳性菌和阴性菌。因此，本研究成功制备了两类基于ZIF-67纳米颗粒原位合成的改性织物，验证并报道了其高效抗菌能力，为抗菌织物的制造提供了新的方案。