X射线光电子能谱在矿物浮选表界面研究中的应用进展

张臻悦; 李钰; 郭文达; 孙宁杰; 刘德峰; 吴汉军; 徐彪

doi:10.19843/j.cnki.CN42-1779/TQ.202503015

武汉工程大学学报 ›› 2025, Vol. 47 ›› Issue (6) : 591 -599+606. DOI: 10.19843/j.cnki.CN42-1779/TQ.202503015

X射线光电子能谱在矿物浮选表界面研究中的应用进展

张臻悦, 李钰, 郭文达, 孙宁杰, 刘德峰, 吴汉军, 徐彪

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摘要

随着现代仪器检测技术的不断进步，越来越多的检测手段被引入矿物浮选的机理研究中，其中X射线光电子能谱(XPS)作为一种先进的表面表征分析技术，在揭示矿物浮选过程的微观机制方面发挥着重要作用。综述了XPS分析原理，梳理了XPS的定量与定性研究，总结了XPS在矿物浮选机理研究方面的应用进展。通过XPS可以分析矿物表面元素组成和化学态变化，明确矿物中元素的存在形式，确定浮选药剂的特征原子在矿物表面吸附的化学态，从而可以探究矿物表面活性位点和药剂之间的吸附作用机制。若辅以元素含量及化学态组分含量分析，还可进一步判定药剂吸附能力的强弱。最后，对XPS技术在矿物浮选领域的发展进行了展望，未来将继续完善XPS仪器和理论发展方面的研究。随着XPS与其他多种手段的结合，XPS在矿物浮选机理研究中的应用将更加广泛，为矿产资源的开发利用做出更多贡献。