基于Taguchi-GA协同的磁性磨料抛光性能预测及制备工艺参数寻优

摘要

通过改变黏结法磁性磨料的制备工艺参数来设计正交试验，制备不同系列规格的磁性磨料，并对其进行形貌和成分检测.以3D打印AlSi10Mg板为加工对象，通过平面磁力研磨试验，揭示磁性磨料制备工艺参数对磁力研磨质量的影响规律.基于回归分析，建立参数与响应之间的回归模型，通过遗传算法实现参数优化.结果表明，在SiC粒径为18～25μm,Fe与SiC的质量比为4.7，环氧树脂与聚酰胺的质量比为2，固化温度为100℃的条件下，材料去除率为1.7 mg/min，表面粗糙度由原始的3.90μm降低至0.27μm，降低率为93.1%.

关键词

优化 / 遗传算法 / 磁性磨料 / 磁力研磨 / 抛光性能