基于金属电化学腐蚀的单晶SiC表面腐蚀和磨损性能研究

胡达, 路家斌, 阎秋生, 骆应荣, 雒梓源

湖南大学学报(自然科学版) ›› 2024, Vol. 51 ›› Issue (4) : 123 -131.

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湖南大学学报(自然科学版) ›› 2024, Vol. 51 ›› Issue (4) : 123 -131. DOI: 10.16339/j.cnki.hdxbzkb.2024178

基于金属电化学腐蚀的单晶SiC表面腐蚀和磨损性能研究

    胡达, 路家斌, 阎秋生, 骆应荣, 雒梓源
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摘要

针对化学机械抛光中抛光液的环境污染,提出一种基于金属电化学腐蚀的单晶SiC化学机械抛光方法 .通过腐蚀实验和摩擦磨损实验,研究了电化学腐蚀单晶SiC的Si面腐蚀性能和磨损性能.通过对比Al、Cu、Fe金属在Na2SO4电解质溶液中对Si面的腐蚀性能,发现Al在Si面产生明显的腐蚀层,EDS和XPS检测证实该腐蚀产物为SiO2.采用摩擦磨损实验研究溶液组分对SiC的Si面磨损影响规律.结果表明,提高Na2SO4电解质溶液浓度能获得更大的磨损量,当Na2SO4电解质溶液浓度为1.00 mol/L时,得到最大为7.19μm2的磨损量;在酸性的金属电化学腐蚀溶液中,Si面具有更好的材料去除性能,在pH=3时磨损量达到11.97μm2.单晶SiC的金属电化学腐蚀材料去除机制为阴极的Al金属发生电偶腐蚀反应产生腐蚀电流,促使阳极SiC表面氧化生成SiO2氧化层,进而去除材料.

关键词

化学机械抛光 / 单晶SiC / 金属电化学腐蚀 / 腐蚀性能 / 磨损性能

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基于金属电化学腐蚀的单晶SiC表面腐蚀和磨损性能研究[J]. 湖南大学学报(自然科学版), 2024, 51(4): 123-131 DOI:10.16339/j.cnki.hdxbzkb.2024178

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