UV/H2O2高级氧化技术去除新污染物

张道义, 孙文俊, 尹文选, 张元娜, 邹康兵, 刘旦宇

doi:10.13476/j.cnki.nsbdqk.2025.0096

南水北调与水利科技（中英文） ›› 2025, Vol. 23 ›› Issue (04) : 956 -964. DOI: 10.13476/j.cnki.nsbdqk.2025.0096

UV/H₂O₂高级氧化技术去除新污染物

张道义, 孙文俊, 尹文选, 张元娜, 邹康兵, 刘旦宇

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摘要

为探究UV/H₂O₂在给水深度处理中有机物和新污染物去除有效性，以某水厂（珠江水为原水，采用常规处理工艺）砂滤出水为处理对象，构建以UV/H₂O₂高级氧化技术为核心的深度净水中试系统。基于气相色谱-四极杆飞行时间质谱联用仪（GC-QTOF MS）技术，对UV/H₂O₂高级氧化进出水的有机物种类进行全筛查分析，并根据筛查结果重点评估UV/H₂O₂高级氧化对全氟化合物、抗生素和内分泌干扰物的去除效果。结果表明：长期稳定运行下高锰酸盐指数和TOC平均去除率分别为36%和3.9%左右；UV/H₂O₂进水中共检出500多种有机物且新污染物相对含量较高，出水检出400多种，表明UV/H₂O₂对不同有机物的降解效果有显著差异；UV/H₂O₂高级氧化技术对典型抗生素和内分泌干扰物的去除率分别为2%～100%和38%，全氟化合物去除效果较差（-46%～35%）。全氟化合物出现负去除率的现象可能源于UV/H₂O₂对长链全氟化合物分步降解机制以及未知前体转化。