Double设计在对称化L2-偏差下的均匀性

雷轶菊, 覃红

华中师范大学学报(自然科学版) ›› 2010, Vol. 44 ›› Issue (03) : 369 -372.

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华中师范大学学报(自然科学版) ›› 2010, Vol. 44 ›› Issue (03) : 369 -372. DOI: 10.19603/j.cnki.1000-1190.2010.03.005

Double设计在对称化L2-偏差下的均匀性

    雷轶菊, 覃红
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摘要

二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L2-偏差下的下界.

关键词

double设计 / 对称化L2-偏差 / 均匀性 / 均匀设计

Key words

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Double设计在对称化L2-偏差下的均匀性[J]. 华中师范大学学报(自然科学版), 2010, 44(03): 369-372 DOI:10.19603/j.cnki.1000-1190.2010.03.005

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