硅基氧化铝模板的制备

陈存华; 徐勇; 王丽霞

doi:10.19603/j.cnki.1000-1190.2010.04.016

华中师范大学学报（自然科学版） ›› 2010, Vol. 44 ›› Issue (04) : 595 -598. DOI: 10.19603/j.cnki.1000-1190.2010.04.016

硅基氧化铝模板的制备

陈存华, 徐勇, 王丽霞

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摘要

多孔氧化铝(PAA)以其支持均匀有序的纳米级微孔、自身可被大面积制备和在450 nm左右的蓝光发射等特性,成为纳米级材料理想的宿主.通过自组织作用形成的多孔氧化铝具有纳米级的孔径、并且具有尺寸可调等很多优点,因此在制备纳米量级的纤维、纳米棒、金属管、半导体等新型材料上,多孔氧化铝已经成为一种常用的模板.本文通过电子束蒸发在硅衬底镀一层铝膜,然后在酸性电解质溶液中阳极氧化制得多孔氧化铝模板,采用X射线衍射(XRD),电子扫描显微镜(SEM)和光致发光谱(PL)对其结构、表面形貌和性能进行了分析.