低相对分子质量石斛多糖双酶解工艺的优化及抗光损伤活性

摘要

石斛多糖因其相对分子质量较大黏度高限制了其在护肤领域的应用.本文采用水提醇沉结合凝胶层析制备了石斛多糖，用酶E306、E752和E896对石斛多糖进行酶解，发现酶解可降低石斛多糖黏度，且用酶E752和酶E896双酶体系水解石斛多糖的抗光损伤活性最强.利用正交试验优化双酶酶解条件，最佳酶解条件是酶E752(pH 6.0、温度40℃、底物浓度50 mg·mL^-1、酶浓度4.0%)，酶E896(pH 5.5、温度50℃、底物浓度10 mg·mL^-1、酶浓度3.0%).酶解后石斛多糖的单糖组成仍然主要为D-甘露糖和D-葡萄糖，其物质的量之比为64.0∶31.6，甘露糖由77.8%降低至64.0%，葡萄糖由22.2%升高至31.6%，相对分子量从1 680k降至277k、1k和0.4k.研究发现优化后低相对分子质量石斛多糖显著提高UVB造成的HaCaT细胞FLG蛋白表达下降和UVA引起NIH/3T3细胞的细胞活力下降，且活性优于优化前；其可逆转UVB诱导的小鼠表皮损伤，降低结痂面积，减少皮肤受损程度，降低表皮厚度，抑制UVA诱导的小鼠皮肤胶原蛋白水平的下降，改善UVA引起的皮肤光损伤；另外，其可通过抑制UVA和UVB诱导中ROS的水平，改善光损伤.本研究建立了低相对分子质量石斛多糖双酶解工艺，并评价其抗光损伤活性，为石斛多糖在美容护肤领域的应用提供了坚实的基础.

关键词

石斛 / 多糖 / 双酶解 / 抗光损伤