GaAs基底上制备圆孔阵列光栅及其影响因素研究

摘要

为解决半导体激光器的偏振问题,提出了一种利用泰尔博特位移光刻曝光技术在Ga As衬底上制作周期光栅的方法,并系统研究了工艺参数和抗反射层对制备的周期光栅质量的影响。利用二次光刻工艺和反应离子蚀刻工艺在Ga As衬底上制备圆孔阵列周期光栅;通过电感耦合等离子体蚀刻设备制造均匀光栅。实验结果表明,该工艺流程可制备深度为20～150 nm的动态可调圆孔阵列周期光栅;当曝光剂量为30 m J·cm^-2,曝光光强度为2 m W·cm^-2,显影时间为1 min时,所曝光出的周期光栅符合实验要求;重复实验证明了利用泰尔伯特位移光刻技术制备光栅工艺的可行性及稳定性。

关键词

泰尔伯特位移光刻曝光技术 / 光栅 / 反应离子蚀刻 / 电感耦合等离子蚀刻 / 半导体激光器