过渡金属催化卤硅烷转化构建硅碳键反应研究进展

王雪松, 曹建

杭州师范大学学报(自然科学版) ›› 2024, Vol. 23 ›› Issue (6) : 627 -642+651.

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杭州师范大学学报(自然科学版) ›› 2024, Vol. 23 ›› Issue (6) : 627 -642+651. DOI: 10.19926/j.cnki.issn.1674-232X.2024.01.221

过渡金属催化卤硅烷转化构建硅碳键反应研究进展

    王雪松, 曹建
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摘要

有机硅化合物在有机合成中具有广泛的应用,开发在分子中引入硅原子的高效方法备受关注.文章从格氏试剂促进反应、silyl-Heck反应、silyl-Negishi反应、过渡金属催化下的交叉偶联反应等方面对近20年硅碳键的构建研究进行了综述,发现硅卤键键能较高是利用卤硅烷构建硅碳键时存在的主要问题.因此,扩展氯硅烷的底物范围,开发更为有利的反应条件将是未来需要探讨的话题.

关键词

过渡金属 / 卤硅烷 / Si—C键合成 / Si—X键断裂

Key words

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过渡金属催化卤硅烷转化构建硅碳键反应研究进展[J]. 杭州师范大学学报(自然科学版), 2024, 23(6): 627-642+651 DOI:10.19926/j.cnki.issn.1674-232X.2024.01.221

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