多次纺丝与退火对ITO薄膜表面均匀性的影响

常溪, 杨立宁, 齐海波

doi:10.13319/j.cnki.sjztddxxbzrb.2014.02.22

石家庄铁道大学学报（自然科学版） ›› 2014, Vol. 27 ›› Issue (02) : 100 -104. DOI: 10.13319/j.cnki.sjztddxxbzrb.2014.02.22

多次纺丝与退火对ITO薄膜表面均匀性的影响

常溪, 杨立宁, 齐海波

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摘要

通过多次纺丝与退火工艺在普通玻璃载玻片上制备ITO透明导电薄膜,研究了退火工艺对薄膜表面形貌的影响。结果表明:退火不仅提高了ITO颗粒的洁净程度,同时减小了其在薄膜表面的粒径分布。多次纺丝与退火可以提高ITO颗粒的覆盖密度,得到致密性比较好、表面缺陷比较少、表面粗糙度比较小、均匀平整的透明导电薄膜。