化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析

摘要

通过对美国罗门哈斯公司1997—2020年在抛光垫领域的专利申请进行分析，得到其全球专利申请量分布和申请趋势、专利转让情况、专利法律状态、专利布局区域、专利引用状况以及技术发展脉络等重要信息。确定了该公司从1909年至今在该领域中的研发历程和研发重点方向，为我国企业在该领域的发展和突破，以及在技术和区域方面的专利布局提供一定的参考，促进我国在化学机械抛光垫领域中的健康发展。

关键词

化学机械抛光 / 抛光垫 / 专利分析 / 技术路线