氩气源低温常压等离子体改善牙本质-自酸蚀粘接界面粘接效果的体外研究

摘要

目的 探讨氩气源低温常压等离子体（nonthermal argon atmospheric pressure plasma,NTAPP）射流处理不同时间对牙本质-自酸蚀粘接剂粘接界面粘接强度及牙本质润湿性的影响。方法 使用NTAPP发生装置（放电输入功率：9 W，氩气气体流量：5 L/min），分别处理5组（n=6）人牙本质试件（0、5、10、15、20 s）后，使用S3 Bond粘接剂处理牙面，制作微拉伸粘接试件并测量各组即刻粘接强度。同样参数、同样分组条件下处理牙本质面后测量牙本质表面接触角。结果 随着NTAPP处理时间延长，牙本质即刻粘接强度呈显著上升趋势，以处理15 s组粘接强度最高（31.82±2.80）MPa。随着NTAPP处理时间延长，与阴性对照组牙本质表面接触角（75.57°±1.45°）相比，各实验组牙本质表面接触角均显著减小，以处理15 s组牙本质表面接触角（33.56°±2.14°）最低，湿润性最大。结论 NTAPP处理可显著增加牙本质表面湿润性，提高与自酸蚀粘接剂粘接界面的粘接强度，这与处理时间相关。

关键词

低温等离子体 / 氩气 / 自酸蚀粘接剂 / 牙本质 / 粘接界面 / 粘接强度 / 接触角 / 润湿性